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本文標(biāo)題:"晶粒結(jié)構(gòu)組成結(jié)構(gòu)分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒"

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晶粒結(jié)構(gòu)組成結(jié)構(gòu)分析用圖像顯微鏡-金屬的滲層晶粒

 
    加熱速度對(duì)1100℃時(shí)形成的滲硅層組織的影響有其自
身的特點(diǎn)。在所研究過的保溫時(shí)間范圍內(nèi),優(yōu)先保持較細(xì)晶
粒底層晶粒尺寸(3000℃/s}。這可能是由于在高溫下原始組
織愈細(xì),滲層晶粒的再結(jié)品和合并成長愈強(qiáng)烈的緣故。
 
    滲硅層晶粒的優(yōu)先增長方向,取決于電加熱滲硅規(guī)范。對(duì)
于低K滲硅工藝,柱狀晶粒結(jié)構(gòu)的特征較明顯。大半是垂直于
滲硅表面的定向晶粒。在高溫滲硅時(shí),等軸晶粒比較多,這些
等軸晶粒在平行于試樣表面的方向上可能具有較大的尺寸。
 
  由于滲硅層的組織在很大程度上取決于底層組織,應(yīng)該
同時(shí)研究一下在不同加熱速度下,奧氏體晶粒和滲層的增長.
動(dòng)力學(xué)。
 
    當(dāng)在很小的速度下進(jìn)行反應(yīng)時(shí),在薄的保護(hù)膜中,一般看
到原始金屬的滲層晶粒在方向上類似, 表面膜愈薄,這.
種類似性就愈大。在厚的氧化皮中,也看到了優(yōu)先的晶粒取二
向性。在冷軋鐵板上,氧化皮晶體正好和鐵的鐵素體晶粒的
尺寸、形狀和位置相當(dāng)
 

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