本文標題："釉燒過程與釉層結構固態或半固態微粒夾雜檢測顯微鏡"

發布者：yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間：2016-1-28 13:12:33

釉燒過程與釉層結構固態或半固態微粒夾雜檢測顯微鏡

釉燒過程與釉層結構

釉燒上放釉工藝的關鍵問題之一，釉燒溫首先決定于其成分之低

熔點物質之含量，成分決定后，溫度則已決定，雖然釉的基本結構

是屬于玻璃相，但其工藝方式和物理、化學過程均與玻璃不同，相

對于玻璃而言，釉是在低于徹底熔融的溫度下燒成的，故和玻璃相

比，其化學反應是夠完全，釉質結構不夠均勻，在釉燒溫度之下，

通常都還有相當大數量的固態或半固態微粒夾雜于其中，故釉層一

般都是乳濁，半我是的，如果連續維升高釉燒溫度，也可能使反應

更徹底些，釉層更透明些，

但這時將出現兩種現象，一為釉層流失，二為釉料被瓷體大量吸收

，同樣不能保證釉層光潔度與致密性，故釉燒溫度不宜過高，時間

不宜過短，讓其盡可能地達到反應充分，結構均勻，對基體有一定

的滲透，交界處充分潤滑，略有溶解或反應形成一種具有化學結構

形的過渡層組織，而又不會被基體所大量吸收，升溫也不宜過快，

隨著固相物質不斷被溶入液相，液相的粘度也不斷提高，其對溫度

又可相應地提高一些。

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