本文標題："測量元件的過程中所產生的誤差原因-工具顯微鏡"

發布者：yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間：2013-3-3 23:8:37

制作元件和測量元件的過程中所產生的誤差原因-工具顯微鏡

在活性離子蝕刻方面繞射式光學元件外型的準確度會直接影響

元件的繞射效率的高低。

量測部分的結果相互比較有了 10%的誤差，因此我們將探討出在制作元

件和測量元件的過程中所產生的誤差所在，其主要的誤差有下列幾

種：

(一)對準的誤差--由于我們在制作八階微透鏡，需要經過 3 次對

準的動作，雖然設計了大小不同的對準記號，但因為曝光機上的物

鏡放大倍率和焦深不足，使得在對準時無法同時看清楚光罩上和基

板上的圖案﹔而且也受限于個人的技術問題及眼睛的靈敏度等問題，都會造成對準上的誤差。

(二)曝光顯影的誤差--將光罩上的圖案轉到基板上時，曝光時間和顯影時間均會影響元件的制作。

如果曝光及顯影的條件過量或者不足，都會影響到光阻所形成的線寬和圖案。

(三)蝕刻的誤差--在蝕刻過程中，蝕刻腔體內氣壓的穩定度、氣

體流量的穩定度、或是無線電頻率之交流電功率的震盪起伏以及基

板與光阻的蝕刻速率比的穩定度等條件，都會影響到元件的品質

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